• 直流溅射-在两个电极之间施加直流电压的方法
• 射频溅射-如何施加交流电（高频）
• 磁控溅射-一种通过在磁体的靶侧产生磁场来从样品中分离血浆的方法。
• 离子束溅射-一种在与靶标或样品不同的位置产生离子并加速向靶标施加的方法。

此外，还有相反的目标，用于ECR（电子回旋加速器）和半导体制造的准直仪以及长距离方法。另外，已经开发了用于磁控管方法的各种方法，其中改变了靶的形状和磁体的布置。

• 必须引起辉光放电，并且设备内部的真空度相对较低，这会受到残留气体的影响。具体而言，膜与气体反应，或者气体被捕集在膜中。
• 气体处于分为离子和电子的等离子体状态，样品也暴露于高温等离子体中。由于温度上升而损坏。
• 当原料（靶）是绝缘体时，离子沉积在表面上，并且放电停止。

• 磁盘（垂直磁记录介质的生成）
• CD / DVD（记录面上的金属膜）
• 半导体（电路产生。存储器[铁电膜]，各种传感器）
• 磁头（用于高密度记录的硬盘。新的使用多层膜的磁头）
• 喷墨打印机头
• 液晶显示装置（透明电极的产生）
• 有机EL显示装置（透明电极的产生）
• 高亮度LED
• 电子显微镜的样品制备（通过导电膜防静电）
• 光催化薄膜
• 分析（确定通过溅射跳过的表面物质，而不是成膜的物质）
• 纳米机（形状记忆合金膜）
• 在塑料和玻璃上产生电磁屏蔽膜