高性能研磨介质粉碎珠低磨耗氧化锆球

高性能研磨介质粉碎珠低磨耗氧化锆球

产品特性

• 高密度：密度达到6.0g/cm3，在研磨过程中能提供更大的冲击能量，尤其适用于高粘度物料的研磨。
• 高硬度：维氏硬度超过1200kg/mm2，莫氏硬度达到9级，具有优异的耐磨性能，磨损率低。
• 低磨耗：磨耗率极低，仅为0.01%以下，在高速研磨工况下，磨损率较钢珠降低40%。
• 抗冲击性：压碎强度超过150kgf，能够承受砂磨机高速运转下的机械冲击。
• 热稳定性：耐温可达600℃，热膨胀系数接近金属，在高温环境下仍能保持强度与硬度不变。
• 表面特性：表面光滑，具有珍珠光泽，降低了物料的粘附，即使磨损后仍能保持均匀的磨耗形态。
• 高纯度：ZrO?含量≥95%，Y?O?含量为4.5-5.5%，化学稳定性高，不与大多数化学物质发生反应。
• 无污染：在研磨过程中不会对物料造成污染，特别适用于对纯度要求高的物料研磨。

工艺性能

• 生产工艺：采用干粉等静压成型技术，通过150MPa以上压力使粉体均匀致密化，再经1550℃以上高温烧结形成微晶结构，确保在高速运转工况下具有良好的抗碎裂性能。
• 表面处理：采用精密抛光工艺，使球体圆度误差小于0.05mm，确保设备运行的稳定性。

应用领域

• 精密加工：在航空航天领域，用于钛合金、陶瓷基复合材料的超细研磨。
• 化工生产：用于钛白粉分散、高分子材料湿法研磨。
• 电子制造：用于光连接器部件的抛光与分散。
• 特种材料：用于珠宝抛光、生物技术中DNA/RNA提取的细胞破碎。
• 研磨介质：广泛应用于砂磨机、球磨机等设备中，在油漆涂料行业，其研磨效率较传统介质提升30%，并能减少因介质碎裂导致的物料污染。

尺寸规格

• φ0.03mm - φ25mm
• 大尺寸氧化锆球：φ30mm、φ40mm、φ50mm

工艺性能

• 生产工艺：采用干粉等静压成型技术，通过150MPa以上压力使粉体均匀致密化，再经1550℃以上高温烧结形成微晶结构，确保在高速运转工况下具有良好的抗碎裂性能。
• 表面处理：采用精密抛光工艺，使球体圆度误差小于0.05mm，确保设备运行的稳定性。

应用领域

• 精密加工：在航空航天领域，用于钛合金、陶瓷基复合材料的超细研磨。
• 化工生产：用于钛白粉分散、高分子材料湿法研磨。
• 电子制造：用于光连接器部件的抛光与分散。
• 特种材料：用于珠宝抛光、生物技术中DNA/RNA提取的细胞破碎。
• 研磨介质：广泛应用于砂磨机、球磨机等设备中，在油漆涂料行业，其研磨效率较传统介质提升30%，并能减少因介质碎裂导致的物料污染。

尺寸规格