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产品资料
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高纯卤素工艺半导体刻蚀压力监测压力传感器

产品名称: 高纯卤素工艺半导体刻蚀压力监测压力传感器
产品型号: PC-600系列
产品特点: 高纯卤素工艺半导体刻蚀压力监测压力传感器

日本 Pureron 的 PC-600 系列是专为 Cl?、HCl、Br?、BCl?、SiCl?、WF?、HF 等强腐蚀性卤素气体 设计的 高纯压力传感器，采用 全贵金属隔膜 + 哈氏合金壳体 + 特殊卤素钝化工艺，在 半导体刻蚀、LED 外延、光伏扩散、化工合成 等工艺中实现 长期零泄漏、零漂移、零粒子 的精准压力监测。
? 1. 适用介质
Cl?、H

高纯卤素工艺半导体刻蚀压力监测压力传感器 的详细介绍

高纯卤素工艺半导体刻蚀压力监测压力传感器

高纯卤素工艺半导体刻蚀压力监测压力传感器

日本 Pureron 的 PC-600 系列是专为 Cl?、HCl、Br?、BCl?、SiCl?、WF?、HF 等强腐蚀性卤素气体 设计的 高纯压力传感器，采用 全贵金属隔膜 + 哈氏合金壳体 + 特殊卤素钝化工艺，在 半导体刻蚀、LED 外延、光伏扩散、化工合成 等工艺中实现 长期零泄漏、零漂移、零粒子 的精准压力监测。

? 1. 适用介质

  • Cl?、HCl、BCl?、SiCl?、WF?、HF、Br?、SO?Hal、NF? 等
  • 电导率 < 0.1 µS/cm 的超纯卤素气体
  • 离子注入、扩散、刻蚀、CVD、ALD 前端供气面板

? 2. 核心结构

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部件材质特点
隔膜Au（金） + Pt（铂） 双层贵金属膜100 % 抗卤素腐蚀，无应力腐蚀开裂
壳体哈氏合金 C-276 一体加工无焊缝死角，电解抛光 Ra ≤ 0.25 µm
密封金属刃口密封（Metal Seal）无 O-ring，氦漏率 < 1×10?11 Pa·m3/s
填充液无油干式零粒子、零油蒸气，真空至 10?? Torr
表面钝化卤素等离子体钝化形成 Cr?O? + Au-Pt 复合钝化层，寿命 > 10 年

? 3. 性能参数

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项目规格
压力范围0 – 0.1 MPa、0 – 0.2 MPa、0 – 1 MPa、-0.1 – 0 MPa（真空）
输出信号4-20 mA（两线制）、0-5 V、0-10 V、RS-485 Modbus RTU
精度±0.25 % FS（可选 ±0.1 %）
温度漂移≤ ±0.02 % FS/°C
长期漂移≤ ±0.1 % FS/年（卤素气体中）
工作温度-20 – +80 °C（环境）、0 – +100 °C（介质）
电源DC 12 – 30 V
防护IP65，可选 IP67 防爆型（Ex db IIC T6）
接气接口1/4" VCR 内螺纹（面密封），可选 1/2" VCR、NW16
电气接口M12 ×1 4-pin 或 6-pin

? 4. 真空-高压两用

  • 真空型 PC-600V：-100 – 0 kPa，金膜 + 哈氏 C276，氦质谱检漏 < 1×10?11 Pa·m3/s
  • 高压型 PC-600H：0 – 1 MPa，全金属密封，耐压 4 MPa 爆破测试

? 5. 典型应用点

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工艺安装位置目的
Cl? 刻蚀质量流量计 MFC 入口实时压力补偿，防止 MFC 漂移
HCl 扩散炉炉管前端供气面板真空启动阶段压力监视
WF? CVD前驱体钢瓶出口钢瓶加热压力安全联锁
BCl? ICP-RIE气体分配?？?/td>卤素气体分配平衡
HF 合成反应器反应釜顶部腐蚀性气体压力远传

? 6. 寿命与维护

  • 连续运行 > 5 年 零漂移（实测 Cl? 中 3 年漂移 < 0.05 %）
  • 无零点调整：贵金属隔膜 无蠕变
  • 年度校准：只需标准气压源，无需拆管
  • 返回检修：Pureron 提供 卤素净化 + 金膜再生 服务

? 7. 选型速查

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型号量程输出接口备注
PC-600A-010 – 0.1 MPa4-20 mA1/4" VCR标准型
PC-600V-00-100 – 0 kPa0-10 V1/2" VCR真空型
PC-600H-100 – 1 MPaRS-485NW16数字型
PC-600EX-010 – 0.2 MPa4-20 mA1/4" VCREx db IIC T6 防爆
一句话总结
PC-600 系列 = “全贵金属隔膜 + 哈氏 C276 壳体" 的卤素专用压力传感器，无 O-ring、无油、零漂移，在 Cl?、HCl、WF? 等强腐蚀气体中 连续 5 年免维护，是半导体刻蚀、LED 外延、光伏扩散等


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