小批量生产场景用紫外线臭氧清洗装置

小批量生产场景用紫外线臭氧清洗装置

1. 光源与照射
• 采用高密度网格状低压水银灯，照射区 206 mm × 206 mm，可均匀覆盖整个工件表面 。
• 紫外光（主要波长 184.9 nm、253.7 nm）同时产生臭氧，光-臭氧协同作用，将有机物氧化分解为 CO?、H?O 等，实现表面清洁与改性 。
2. 易于操作的卖点
• 整机紧凑、桌面放置，前开门抽屉式或掀盖式取放工件，无需复杂夹具。
• 内置安全联锁：门开灯灭、臭氧泄漏监测、定时照射、一键启动，中文/英文界面，参数可在面板直接设定 。
• 无需外接真空或化学品，仅需普通 AC 100-240 V 电源与排气（可选催化分解器），维护只需定期擦拭灯管表面 。
3. 典型应用
• 半导体、光掩膜、MEMS、OLED/LED、玻璃基板、金属箔等表面有机物去除，提高接触角、粘附性与键合良率。
• 实验室或小批量生产场景，尤其适合“需要快速试样处理、场地有限、人员流动大"的场合 。

1. 光源与照射
• 采用高密度网格状低压水银灯，照射区 206 mm × 206 mm，可均匀覆盖整个工件表面 。
• 紫外光（主要波长 184.9 nm、253.7 nm）同时产生臭氧，光-臭氧协同作用，将有机物氧化分解为 CO?、H?O 等，实现表面清洁与改性 。
2. 易于操作的卖点
• 整机紧凑、桌面放置，前开门抽屉式或掀盖式取放工件，无需复杂夹具。
• 内置安全联锁：门开灯灭、臭氧泄漏监测、定时照射、一键启动，中文/英文界面，参数可在面板直接设定 。
• 无需外接真空或化学品，仅需普通 AC 100-240 V 电源与排气（可选催化分解器），维护只需定期擦拭灯管表面 。
3. 典型应用
• 半导体、光掩膜、MEMS、OLED/LED、玻璃基板、金属箔等表面有机物去除，提高接触角、粘附性与键合良率。
• 实验室或小批量生产场景，尤其适合“需要快速试样处理、场地有限、人员流动大"的场合 。