桌面型洁净环境氟气体浓度监测仪装置
产品名称: 桌面型洁净环境氟气体浓度监测仪装置
产品型号: FU-100
产品特点: 桌面型洁净环境氟气体浓度监测仪装置日本 PhotoScience FU-100 是一台“洁净环境专用"的氟气体(F?、HF、SF?、NF? 等)浓度测量装置,采用真空紫外光离子化(VUV-PID)+ 窄带滤光片轮技术,可在 ppb – ppm 范围内连续、无耗材、高选择性地监测洁净室、EUV 腔体、ALD 设备排气中的总氟量或单一氟组分,广泛用于半导体 7 nm 以下节点、OLED 蒸镀、钙钛矿
桌面型洁净环境氟气体浓度监测仪装置 的详细介绍
桌面型洁净环境氟气体浓度监测仪装置
桌面型洁净环境氟气体浓度监测仪装置
日本 PhotoScience FU-100 是一台“洁净环境专用"的氟气体(F?、HF、SF?、NF? 等)浓度测量装置,采用真空紫外光离子化(VUV-PID)+ 窄带滤光片轮技术,可在 ppb – ppm 范围内连续、无耗材、高选择性地监测洁净室、EUV 腔体、ALD 设备排气中的总氟量或单一氟组分,广泛用于半导体 7 nm 以下节点、OLED 蒸镀、钙钛矿电池等对氟污染极度敏感的产线。
? 核心卖点
VUV-窄带轮:10.2 eV 真空紫外灯 + 6 位滤光片轮,F?/HF/NF?/SF? 单一选测,无耗材、无化学池
ppb 级下限:0 – 500 ppb F? 档,检出限 1 ppb,线性 R2 > 0.999
洁净对应:全 316L EP + 金属垫片,Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm),无死体积 < 0.1 mL
高速响应:T90 ≤ 5 s(1 L/min),可捕捉 ALD 脉冲冲洗峰值
双量程自动切换:0 – 500 ppb / 0 – 10 ppm / 0 – 100 ppm 三档,自动跳档
无零点漂移:双光束 VUV + 参考池,24 h 零点漂移 < ±1 ppb
数据完整:32 GB 内置 + OPC-UA / Modbus TCP,5 年连续存
日本 PhotoScience FU-100 是一台“洁净环境专用"的氟气体(F?、HF、SF?、NF? 等)浓度测量装置,采用真空紫外光离子化(VUV-PID)+ 窄带滤光片轮技术,可在 ppb – ppm 范围内连续、无耗材、高选择性地监测洁净室、EUV 腔体、ALD 设备排气中的总氟量或单一氟组分,广泛用于半导体 7 nm 以下节点、OLED 蒸镀、钙钛矿电池等对氟污染极度敏感的产线。
? 核心卖点
VUV-窄带轮:10.2 eV 真空紫外灯 + 6 位滤光片轮,F?/HF/NF?/SF? 单一选测,无耗材、无化学池
ppb 级下限:0 – 500 ppb F? 档,检出限 1 ppb,线性 R2 > 0.999
洁净对应:全 316L EP + 金属垫片,Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm),无死体积 < 0.1 mL
高速响应:T90 ≤ 5 s(1 L/min),可捕捉 ALD 脉冲冲洗峰值
双量程自动切换:0 – 500 ppb / 0 – 10 ppm / 0 – 100 ppm 三档,自动跳档
无零点漂移:双光束 VUV + 参考池,24 h 零点漂移 < ±1 ppb
数据完整:32 GB 内置 + OPC-UA / Modbus TCP,5 年连续存
日本 PhotoScience FU-100 是一台“洁净环境专用"的氟气体(F?、HF、SF?、NF? 等)浓度测量装置,采用真空紫外光离子化(VUV-PID)+ 窄带滤光片轮技术,可在 ppb – ppm 范围内连续、无耗材、高选择性地监测洁净室、EUV 腔体、ALD 设备排气中的总氟量或单一氟组分,广泛用于半导体 7 nm 以下节点、OLED 蒸镀、钙钛矿电池等对氟污染极度敏感的产线。
? 核心卖点
VUV-窄带轮:10.2 eV 真空紫外灯 + 6 位滤光片轮,F?/HF/NF?/SF? 单一选测,无耗材、无化学池
ppb 级下限:0 – 500 ppb F? 档,检出限 1 ppb,线性 R2 > 0.999
洁净对应:全 316L EP + 金属垫片,Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm),无死体积 < 0.1 mL
高速响应:T90 ≤ 5 s(1 L/min),可捕捉 ALD 脉冲冲洗峰值
双量程自动切换:0 – 500 ppb / 0 – 10 ppm / 0 – 100 ppm 三档,自动跳档
无零点漂移:双光束 VUV + 参考池,24 h 零点漂移 < ±1 ppb
数据完整:32 GB 内置 + OPC-UA / Modbus TCP,5 年连续存